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1700度双温区管式炉CVD系统设备:三路供气系统+真空系统
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1700度双温区管式炉CVD系统设备:三路供气系统+真空系统

双温区管式炉CVD系统由供气系统+双温区管式炉+抽气系统组成 ,温度可以达到1200度、1400度、1600度、1700度,加热区间可以是单温区、双温区、三温区等,极限真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合。

1700度CVD系统是由三路供气系统、STR1700度双温区管式炉、真空系统组成。

1700度双温区管式炉:以1800型硅钼棒和硅碳棒为加热元件,有两个加热区,采用双层壳体结构和宇电控温仪表,每个加热区能进行30段程序控温,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,炉管两端装有不锈钢法兰,不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表,抽真空时真空度能够达到10-3 Pa,该炉为卧式,两个温区可以立控制、设置不同的温度,使用方便,操作简单,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的不错产品。

双温区管式炉CVD系统规格参数:

设备名称 双温区管式炉CVD系统
高温炉壳体 采用双层壳体结构,并带有风冷系统,使得壳体表面温度小于55℃,内炉膛表面涂有1750℃氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度 
电压 AC 208-240V 单相, 50/60 Hz 
加热元件 硅钼棒
额定作温度 1700℃
连续工作温度 1600℃
设计快升温速率 <= 20 ℃
炉管材质和尺寸 刚玉管: OD: 80mm x  ID: 75 mm x Length: 1000 mm 
加热区长度 二温区:200+200+200 mm
恒温区长度 350  (+/-1 ℃) 
控温系统 PID50段程序化控温
控温精度 +/- 1 ℃
真空密封系统 两个不锈钢密封法兰(上面已安装真空计和截止阀),额定漏气率6 mtorr/min
真空泵 采用双旋机械泵,机械泵上安装有油污过滤器,可以过滤真空泵工作时产生的油烟,减少泵油的损耗,保护环境和人体健康,过滤的设计小微粒直径为0.3微米。
数字式真空显示计   数显真空计,已安装在不锈钢法兰上 
混气系统 三个浮流量计
三路浮子量程分别为
10-100 cc/min.
16-160 cc/min.
25-250 cc/min
内部安装有一混气罐 
售后服务 质保一年,终身保修

 

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