流化床立式CVD系统:立式流化床管式炉
该款立式流化床管式炉是一款流化床立式CVD系统，流化床立式CVD系统专门针对粉末实验。立式流化床管式炉仪器采用先进的PID智能控温，控温精度在±1℃。
STR款流化床立式CVD系统专门针对粉末实验，流化床立式管式炉管为高纯刚玉管，炉管内部嵌有一个微孔陶瓷板，粉末可以放在微孔陶瓷板上，气体从炉管下端通入，通过微孔陶瓷板使样品粉末悬浮在加热区域，进行实验。仪器采用先进的PID智能控温，控温精度在±1℃。控制界面为7英寸高清真彩液晶触摸屏，图文显示、可视化操作界面，操作便捷直观易上手，能够大大提高您的实验效率。使用领域为粉末实验。
流化床CVD管式炉系可适用于粉末材料的CVD工艺中（FBCVD）。此系统由颗粒悬浮立式管式炉和超声雾化模块组成。炉管内部嵌有一多孔石英板，石英板的孔径为5-15um.粉末可放在多孔石英板上，气体可从炉管下端通入，通过多孔石英板使样品颗粒悬浮在加热区域，进行沉积实验。对于核壳结构的纳米颗粒制备是一款不错的实验仪器。
流化床立式CVD系统用炉：赛特瑞立式管式炉
流化区域
配有一个2.4MHz超声雾化仪，可将液体雾化成亚微米级液滴引入到加热流化区域进行热解或粉末表面的CVD涂层包覆
气体以及亚微米级的雾化颗粒均匀分布在整个炉腔中
固体颗粒被底部通入的向上气体悬浮在加热区内
可提供绝好的热传导及颗粒表面的均匀包覆
炉体设计为开启式，当实验结束后，可将炉体打开，拿出石英管，取出反应后的颗粒。
注意：在通入气体悬浮起样品颗粒时，也许会因为气体流量过大会使颗粒穿过加热区，所以实验时要根据颗粒的大小尺寸来调节气体流量
超声雾化仪
220V AC，2.4MHz高频超声波雾化器，可将溶液雾化为亚微米级颗粒
液体罐上涂有氟化物，并采用氟胶密封圈密封
可设置超声仪功率0-100%，每次按5%增加
外部配备有氟化物光学传感器（耐腐蚀）以及阀门来确保内部液面处于合适高度，避免液体量过少
316不锈钢三通，带有1/4英寸转换接头，用于通入载流气体
立式流化床管式炉主要技术参数：
| 产品名称 | 流化床CVD管式炉 |
| 多孔石英板 |
孔径：5~15 um 尺寸：22 mm O.D x 4mm 厚 |
| 炉体结构 |
双层壳体结构并带有风冷系统 炉体设计为开启式，以方便放样和取样 采用高纯氧化铝纤维作为炉膛材料，并且表面涂有高温氧化铝涂层，可延长仪器使用寿命和提高加热效率 |
| 基本参数 |
额定工作温度：1100℃ ；连续工作温度：1000℃ 升温速率：≤20 ℃ /min；加热区：200mm（单温区） 恒温区：100mm (±2℃ )（尽供参考） |
| 加热元件 | 钢电炉丝 |
| 测温元件 | K型热电偶 |
| 温控系统 |
可设置30段升温，保温和降温程序。 采用PID方式来调节温度，并带有过热和断偶保护 控温精度：±1℃ |
| 炉管 |
包含一异型石英管 炉管尺寸：两端：25 mm O.D，22 mm I.D 中间：50 mm O.D，44 mm I.D 中间区域的大尺寸确保了物料高的气动性 |
| 密封法兰 |
底部法兰：常规设计1”不锈钢真空法兰，配备1/4”进气口用于悬浮气体进入 顶部法兰：特殊设计的1”法兰，可实现前驱体气体或逆流气体的进气和出气，请点击图片查看详情。 |
| 可选配件 |
多路气路系统可用于气体控制 氧分析仪：氧分析仪可安装在系统中用于检测气体中的氧含量从而防止或减少CVD过程中的氧化现象。点击下图了解更多详细信息。 |
| 质保期 | 一年保质期，终生维护（不包含炉管、密封圈及加热元件等耗材） |
注意事项
①炉管内气压不可高于0.02MPa②由于气瓶内部气压较高，所以向炉管内通入气体时，气瓶上必须安装减压阀，建议在本公司选购减压阀，本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精度安全
③当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，• 炉管内的气压需和大气压相当，保持在常压状态
④进入炉管的气体流量需小于200SCCM，以避免冷的大气流对加热石英管的冲击
⑤石英管的长时间使用温度＜1100℃
⑥对于样品加热的实验，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，若气压表示数大于0.02MPa，必须立刻打开泄气阀，以防意外发生（如炉 管破裂，法兰飞出等）
