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2200度真空钨丝烧结炉:2200度高真空烧结炉
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2200度真空钨丝烧结炉:2200度高真空烧结炉

2200°C vacuum tungsten wire sintering furnace

2200度真空钨丝烧结炉为2200度高真空烧结炉,加热温度可达2300度,真空度可达6.67*10-pa, 具有加热温度高、真空度高、洁净度高特点。

2200度真空钨丝烧结炉采用钨加热,金属屏炉膛,

2200度真空钨丝烧结炉可用于高纯陶瓷烧结成透明陶瓷,蓝宝石玻璃、氧化锆等在高真空下进行烧结、脱气及时效处理。

真空烧结钨丝炉同时适用于大专院校、科研单位进行中试批量生产使用。

1.特殊设计的钨网加热,钨箔隔热屏,最高使用温度可达到2300℃。

2.真空机组可选用分子泵,极限真空度可达到6x10-5Pa。

3.可充入氮气、氩气、氢气、氮氢混合气体等多种气体。

真空度均匀温场

温度均匀性:

采用优质进口纤维炉膛与精密绕丝工艺,确保炉管恒温区温度均匀性极佳(如±1℃),保障实验数据的一致性。

高真空系统:

配备高性能分子泵组或涡旋泵,可实现从低真空到高真空(如10?3 Pa ~ 10?? Pa)的广泛范围,有效防止物料高温下氧化。

长寿命炉管:

标配高纯度石英管,可选配刚玉管或氧化铝管,满足不同温度及腐蚀性环境需求。

图片

全面的气氛控制系统

气氛多样性:

可自由切换惰性气体(如氩气、氮气)、还原性气体(如氢气、一氧化碳混合气) 等,满足从保护性烧结到活性反应的各种工艺。

精密流量控制:

配备质量流量控制器(MFC),精确控制气体流量,确保工艺的可重复性。

完善的气路设计:

采用双阀保护、压力显示、安全泄压阀等,确保气氛操作的安全可靠。

智能化的操作体验

直观触摸屏:

大尺寸彩色触摸屏,操作简单,信息显示直观。

可编程控制器:

支持多达30段升温、保温、降温程序设定,可存储多条工艺曲线,实现全自动运行。

坚固的结构与安全保障

双层风冷结构:

炉体采用双层设计,配合风冷系统,确保外壳温度始终处于安全范围。

多重安全防护:

集成超温保护、断偶报警、漏电保护、过流保护等功能,为设备和操作者提供全方位守护。

人性化设计:

开启式炉盖,便于炉管安装与样品取放。

规格型号

型号 加热区 温度 温场均匀性 功率 极限真空度
STR WSF221010 直径150x高200 2300℃ ±3℃ 30KW 6x10-5Pa
STR WSF222030 直径200x高300 2300℃ ±3℃ 68KW 6x10-5Pa
STR WSF223050 直径300x高500 2300℃ ±3℃ 120KW 6x10-5Pa
STR WSF224060 直径400x高600 2300℃ ±3℃ 160KW 6x10-5Pa

2200度真空钨屏炉

2200度真空钨屏炉

2200度钨真空烧结炉

2000度真空钨带炉

2000真空钨网炉

高真空钨网炉


与真空石墨炉的关键区别

对比项 真空钨丝烧结炉 真空石墨炉
碳污染 完全无碳,适合忌碳材料 存在碳挥发污染风险
极限真空 更高(10⁻⁴~10⁻⁶ Pa) 相对较低(石墨放气)
最高温度 可达2800~3000°C 通常2200~2400°C
成本 昂贵(钨/钼材料成本高) 较低(石墨易加工)
抗热震性 较差,需严格控制升降温速率 较好
重量 较重(金属热场) 较轻



2200度高真空烧结炉主要应用领域

透明陶瓷烧结:氧化铝、氧化镁等透明陶瓷的高纯烧结

难熔金属及合金:钨、钼、钽、铌及其合金的真空烧结

半导体与电子:溅射靶材、电子封装材料、钨加热器

军工航天:火箭喷管、燃烧室内衬、高温防护材料

核工业:核聚变钨基壁材料(如W-La₂O₃)

超高温陶瓷(UHTCs):ZrB₂-SiC、HfC等材料制备



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