在 2200°C 的温度下,高纯度石英(SiO₂)确实会与钨(W)发生反应,但这是一个相对缓慢的氧化反应,而非剧烈反应。
反应机理与温度阈值
根据《Tungsten: Properties, Chemistry, Technology of the Element》中的实验数据
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2W+3SiO2→2WO3+3Si
钨被氧化生成三氧化钨(WO₃),同时二氧化硅被还原生成单质硅。
实际工业应用中的情况
尽管存在上述反应,
钨坩埚仍被广泛用于石英玻璃熔炼(工作温度通常 >2200°C)
,原因包括:
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反应速率较慢:在 2200°C 时反应被描述为"slight oxidation"(轻微氧化),而非剧烈侵蚀。
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气氛控制:工业上通常在真空或惰性气氛(氮气、氩气)中操作,这可以显著延缓反应进程。
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使用周期管理:虽然长期接触会发生反应,但在单批次熔炼周期内,反应量通常在可接受范围内。
关键影响因素
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因素
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影响
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温度
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2200°C 已超过反应起始温度(2000°C),反应随温度升高而加剧
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气氛
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氧化性气氛(含 O₂、水蒸气)会显著加速反应;无氧环境可延缓反应
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接触时间
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短期接触反应轻微,长期高温接触会导致明显的钨损耗
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石英纯度
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高纯度石英(SiO₂ > 99.99%)反应性较低,杂质可能催化反应
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结论
2200°C 时两者会发生反应,生成 WO₃ 和单质 Si。但在受控气氛下的短时工艺中,这种反应通常缓慢且可管理。如果要求极长寿命或超高纯度,可能需要考虑使用氮化硼(BN)或石墨等其他耐火材料,或定期更换钨坩埚。