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小型流化床
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小型流化床

小型流化床气相沉积设备

小型流化床喷雾纳米包覆设备

小型流化床气相沉积设备(CVD)

一、设备简述

粉体材料在反应器内形成流化态,进行包覆、烧结等工艺。以流化床为反应器的CVD工艺具有包覆均匀的特点。流化床反应器(CVD)适用于D50=2~1000μm的粉体材料流化。

二、CVD的优势

1、流化床反应器的传热和传质系数高,比传统的固定床反应器和移动床反应器高1个数量级以上。

2、流化床反应器反应区温度均匀,所以对于强热效反应热扩散和热补充都有着明显的优势。

3、因反应区的温度控制均匀,相比于固定床反应器,流化床反应器在控温反应的温度精度一致性上有着不可替代的优势。

4、流化床反应器的单位产能大,因为能效和接触充分,单位床层的生产能力远远大于传统的固定床反应器和移动床反应器。

5、因为反应区质点均处于流动态,易于物料的加注和卸出,对于能耗和生产效率都有明显的提升。

6、设备采用自动化控制,更加接近于商业化设备,并明显提高性能稳定性。

7、设备采用一体化设计,满足防爆需求。

三、主要技术参数

1、使用载气或反应气体种类:H2、O2、N2、Ar、CH4、C2H2等

2、固体原料种类:锂电池正负极材料、碳纳米管、催化剂、陶瓷材料、贵金属粉末、医药颗粒或者粉末、石墨、硅和金属氧化物等。

3、材料尺寸要求:≥0.5μm

4、批次处理量:具体需求根据客户要求进行定制。实验级3公斤,中试级20公斤,商业级250公斤。

5、操作温度:≤950℃

(四)设备型号:

序号

型  号

款  式

量   级

1

CVD-10

基本款/特气款

实验级

2

CVD-20

硬碳款/硅碳基本款/硅碳硅烷/金属有机气体

实验级

3

CVD-100

硅碳基本款/硅碳硅烷/

中试级

小型流化床喷雾纳米包覆(SDNC)

一、设备简述 

流化床喷雾纳米包覆(SDNC)反应系统结合了流化床反应器技术与喷雾干燥技术:将可溶性包覆物溶解并进行液相喷雾,对在载气中实现完全流化态的物料进行包覆。两种技术相互融合,可实现过程效率、厚度可控的包覆沉积,从而提升产业化的材料包覆能力,达到很好的改性目的。

二、SDNC优势

1、更细小的雾滴加流化床,使包覆更加的均匀;

2、溶解喷雾包覆,使包覆物的选择更加广泛;

3、产业化流化床反应器可实现连续化生产,单位产能远远大于传统的固定床反应器和回转容器类反应器;

4、设备采用自动化控制,大幅降低人工操作要求,并提高品质稳定性。

三、主要技术参数

1、使用载气或反应气体种类:N2、Ar和空气等;

2、固体原料种类:金属粉末、金属氧化物粉末、石墨、硅类材料三元材料和陶瓷材料等;

3、材料尺寸要求:≥2μm;

4、批次处理量:具体需求根据客户要求进行定制;

5、反应系统操作温度:≤150℃;

6、喷雾操作温度≤300℃:

 四、设备型号:

序号

型  号

量   级

1

C-3

实验级

2

C-25

中试级

小型流化床气相沉积设备、小型流化床喷雾纳米包覆设备
Small fluidized bed gas deposition equipment, 

small fluidized bed spray nano coating equipment


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