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箱式真空热处理炉:箱式气氛炉
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箱式真空热处理炉:箱式气氛炉

箱式真空热处理炉为箱式气氛保护炉。箱式真空热处理炉具有合理的结构,外观美观大方,外壳采用优良冷轧钢板,经数控机床加工,豪华、美观的双色进口环氧粉末静电喷塑工艺,加工而成,耐高温,耐腐蚀,采用优良加热元件,双层炉壳间配有风冷系统,能快速降温;该炉具有温场均衡、炉体表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。


真空箱式气氛炉采用硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和智能控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,抗热震性强,耐腐蚀性好,不塌陷,不结晶,不掉渣,无污染,使用寿命长。内外胆间配有风冷系统,能快速升降温。控制系统采用微电脑人工智能调节技术,具有PID调节、自动控制、自整定功能,多段程序编程,并可编制各种升温、保温、降温程序,控温精度高;集成模块可控硅控制、移相触发,保护系统:采用独立超温保护、超压、超流、漏电、短路等保护。自动化程度较高。

真空箱式气氛炉采用外壳整体密封,盖板和炉门密封均采用高温硅胶O型圈,有效地提高了气密性。炉门处装有水冷系统,有效的减缓密封圈的老化。气路连接只需卡箍便可完场气路连接,方便操作。气体经过流量计后由后膛进入,经炉膛后,由炉门口处出气阀排出。

该真空箱式气氛炉可以在真空下烧结,该炉在侧面开有KF25的快接接口,可以接真空泵,真空泵出气口配有烟雾过滤器和抽气口配有粉尘过滤器;并配有波纹管、真空泵(连接炉子与真空的的金属管)、KF25快速卡套、真空挡板阀、进口电阻真空计等,该炉最小真空度小于5Pa,也可以通氧气、氩气、氮气等保护气体,该真空箱式气氛炉具有体积小、温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,真空箱式气氛炉是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的常用高温设备。

箱式真空热处理炉有1000度箱式气氛炉、1200度箱式气氛炉、1300度箱式气氛炉、1400度箱式气氛炉、1500度箱式气氛炉、1600度箱式气氛炉、电池正极材料专用箱式气氛炉、负极材料专用箱式气氛炉。


主要用途

本箱式真空热处理炉广泛用于高校、科研院所、工矿企业等,是做粉末、电子、冶金、医药、陶瓷、硫磺、玻璃新材料、化工、金属烧结和金属热处理等实验和生产的理想设备。

箱式真空热处理炉技术参数

电炉名称 箱式真空热处理炉
额定电压 220V/380V
温度 200-1800℃均可定制
升温速率 0.1-30℃/min(可任意调节)
控温精度 ±1℃
控制方式

采用闭环技术可控硅模块触发控制,移相触发控制方式,输出电压、电流或功率连续可调,具有恒电压、恒电流或恒功率的特性;

从而达到保护发热元件避免过大电流、电压的冲击,达到安全可靠的控温效果及精度。

控温方式 采用智能微电脑人工智能调节技术或液晶触摸屏(可选)、具有P I D调节、自动控制升温、保温、降温、自整定功能、30段程序编程
保护系统 双回路保护,超温保护、漏电保护、断偶保护
耐火材料 采用高纯复合氧化铝陶瓷纤维制作而成,保温性能好、耐温高、抗热震
测温元件 分度号K型、S型、B型(根据温度选配)
加热元件 优良合金电阻丝、高纯硅碳棒、高纯硅钼棒(根据温度选配)
加热方式

左、右两面加热;

左、右、后三面加热;

前、后、左、右四面加热;

前、后、左、右、底五面加热,可根据客户要求定制

炉门开启方式 侧开
炉体

炉体采用数控机床加工,经抛光、打磨、酸洗、磷化、喷涂塑粉等制作而成;

具有抗氧化、耐酸碱、耐腐蚀、耐高温、容易清理等优点

表面温升 ≦35℃
冷却方式 双层炉壳风冷
客户选配 炉底板、加热元件、排气口、观察窗

炉膛型号规格参考:

规格长、宽、高 容积(L) 电压(V) 功率(KW) 控温精度
200*150*150mm 4.5L 220 4 ±1℃
300*200*200mm 12L 220/380 8 ±1℃
400*300*300mm 36L 380 12 ±1℃
500*300*300mm 45L 380 15 ±1℃
500*400*400mm 80L 380 22 ±1℃
500*500*500mm 125L 380 25 ±1℃
800*500*500mm 200L 380 35 ±1℃
800*800*800mm 512L 380 45 ±1℃
1200*800*800mm 768L 380 80 ±1℃

可根据客户使用需求定制不同规格



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