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小型二硫化钼生长设备:双炉体滑动式管式炉+2路混气系统
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小型二硫化钼生长设备:双炉体滑动式管式炉+2路混气系统

二硫化钼生长设备:双炉体滑动式管式炉+混气系统
二硫化钼生长设备由预热炉、反应炉,真空系统、供气系统以及轨道支架五部分组成。二硫化钼生长设备前端配的预热炉能够用来预热蒸发固态源,反应炉能够提供反应所需的热环境。

该二硫化钼材料生长设备由预热炉、反应炉,真空系统、供气系统以及轨道支架五部分组成。前端配的预热炉能够用来预热蒸发固态源,反应炉能够提供反应所需的热环境。两台电炉均安装在滑轨支架上,可以实现快速升降温,提升实验效率。炉管内配有热电偶测温,可以准确控制反应条件。所有电路均采用高清全彩触摸屏控制,操作简单直观易于上手。

供气系统采用两路质量流量计,流量控制精密,操作简单直观;真空系统采用高品质双极旋片真空泵,真空度可达1.0E-1Pa,完全满足CVD晶体生长实验的需要。

二硫化钼生长设备用途:

 本产品主要应用于二硫化钼材料的CVD法生长实验,尤其适合二硫化钼的制备。小型二硫化钼生长设备可以用于在实验室或小规模生产中生长二硫化钼薄膜。在使用这种设备时,操作人员需要严格按照操作规程进行操作,以确保生长薄膜的质量和稳定性。

二硫化钼生长设备技术参数:

预热炉

产品型号

STR-MTF100-12S

炉膛长度

300mm

加热区长

200mm

恒温区长

100mm

工作温度

0~1100℃

控温精度

±1℃

控温模式

30段或50段程序控温

显示模式

LCD(高清全彩触摸屏)

供电电源

AC:220V 50/60Hz

单温区管式炉

产品型号

STR-MTF100-12

炉膛长度

440mm

加热区长

400mm

恒温区长

200mm

工作温度

0~1100℃

控温精度

±1℃

控温模式

30段或50段程序控温

显示模式

LCD(高清全彩触摸屏)

供电电源

AC:220V 50/60Hz

炉管

炉管材质

高纯石英

炉管长度

φ100mm x 1800mm

密封方式

304不锈钢真空水冷法兰

法兰接口

1/4英寸卡套接头

供气系统

两路质子流量计

北京七星华创,质子流量计

流量范围

MFC1量程:0~200SCCM  MFC2量程:0~200SCCM

测量精度

±1.5%F.S

重复精度

±0.2%FS

线性精度

±1%F.S.

响应时间

≤4s

工作压力

-0.15Mpa~0.15Mpa

流量控制

LED高亮数码管显示,按键调节

每路气体含有针阀单独控制

进气接口

可接1/4NPS或者外径6mm不锈钢管

出气接口

可接1/4NPS或者外径6mm不锈钢管

连接方式

双卡套接头

工作温度

5~45℃

气体预混

配气体预混装置

排气系统

机械泵

旋片泵

抽气速率

4L/S   

排气接口

KF16

真空测量

电阻规

极限真空

1.0E-1Pa

供电电源

AC:220V 50/60Hz

抽气接口

KF16

轨道

轨道长度

1.8m~2m

能实现两个炉子一个炉位长度的滑动,实现快速升降温



小型二硫化钼生长设备主要部件:

气源系统:用于提供生长过程中所需的气体源,例如硫化氢和二甲基硫等。

控制系统:用于监控和调节生长参数,如温度、气压等,以确保二硫化钼薄膜的质量和性能。

真空系统:用于维持反应室内的高真空环境,以减少杂质对生长过程的干扰。


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