1700度小型真空管式CVD系统由1700真空管式炉，HQF-Ⅲ浮子混气系统，内置测温系统及真空系统等组成。此系统烧结温度可达1700℃；真空泵采用双极旋片真空泵，真空度可达到5x10-1Pa；可实现不同的1~3路气体混合；内置测温系统可实时监测反应管内的温度变化。

1700度小型真空管式CVD系统主要功能和特点：

1、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成，zui高真空可达0.0001Pa；

2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制；

3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性。

4、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；管路采用世界*Swagelok卡套连接，不漏气；

5、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用安全可靠。

1700度小型真空管式CVD系统主要用途：

高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。

1700度小型真空管式CVD系统主要技术参数：

SGL-1700真空管式炉

炉壳设计：双层炉壳间配有风冷系统，有效保证外壳表面温；

炉膛材质：真空吸附成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛，保温性能好

加热元件：采用U型硅钼棒，表面负荷高，大大提高了其使用寿命

设备电压：AC220V   50/60Hz 功率6KW

炉管材质：采用99氧化铝刚玉管，致密度高，经久耐用，不易断裂

炉管尺寸：Φ40/60/80*/1000mm，4个氧化铝管堵

法兰及支撑：SUS304不锈钢快速水冷法兰，长期水冷无腐蚀

一个卡箍就能完成法兰的连接，放、取物料方便快捷

可调节的法兰支撑，平衡炉管的受力支撑

包含进气、出气、真空抽口针阀，KF密封圈及卡箍组合，4个密封硅胶圈等

加热元件：6根U型硅钼棒

加热区长度：280mm

恒温区长度：100mm

工作温度：≤1600℃

设计温度：1650℃

升温速率：≤10℃/min

温控系统：采用人工智能调节技术，50段升降温程序，具有PID调节、自整定功能

测温元件：B型双铂铑热电偶

恒温精度：±1℃

混气系统：三路浮子流量计配置在移动工作台上，可以同时通入三路不同的气体

   内置不锈钢混气箱，每路气体管路均配有逆止阀

   管路采用聚四氟乙烯软管，耐温耐腐

   每路气体进气管路配有不锈钢针阀

    流量规格：0.3~3L/min

    控制精度：±5%

低真空系统：采用双极旋片真空泵，真空度可达5x10-1 Torr

不锈钢充油真空压力表，良好的抗震性

内置测温系统：测温元件可从加热区边缘延伸至温区中心

法兰密封，保证炉管的密封性

测温元件：B型双铂铑热电偶

炉体尺寸：660*600*1000mm

混气移动工作台：800*540*750mm

可选配件

Z-3混气系统,中、高真空系统，各种刚玉坩埚，刚玉管，无纸记录仪，氧含量分析仪等。