一、设备简述
粉体材料在反应器内形成流化态,进行包覆、烧结等工艺。以流化床为反应器的CVD工艺具有包覆均匀的特点。流化床反应器(CVD)适用于D50=2~1000μm的粉体材料流化。
二、CVD的优势
1、流化床反应器的传热和传质系数高,比传统的固定床反应器和移动床反应器高1个数量级以上。
2、流化床反应器反应区温度均匀,所以对于强热效反应热扩散和热补充都有着明显的优势。
3、因反应区的温度控制均匀,相比于固定床反应器,流化床反应器在控温反应的温度精度一致性上有着不可替代的优势。
4、流化床反应器的单位产能大,因为能效和接触充分,单位床层的生产能力远远大于传统的固定床反应器和移动床反应器。
5、因为反应区质点均处于流动态,易于物料的加注和卸出,对于能耗和生产效率都有明显的提升。
6、设备采用自动化控制,更加接近于商业化设备,并明显提高性能稳定性。
7、设备采用一体化设计,满足防爆需求。
三、主要技术参数
1、使用载气或反应气体种类:H2、O2、N2、Ar、CH4、C2H2等
2、固体原料种类:锂电池正负极材料、碳纳米管、催化剂、陶瓷材料、贵金属粉末、医药颗粒或者粉末、石墨、硅和金属氧化物等。
3、材料尺寸要求:≥0.5μm
4、批次处理量:具体需求根据客户要求进行定制。实验级3公斤,中试级20公斤,商业级250公斤。
5、操作温度:≤950℃
(四)设备型号:
序号 |
型 号 |
款 式 |
量 级 |
1 |
CVD-10 |
基本款/特气款 |
实验级 |
2 |
CVD-20 |
硬碳款/硅碳基本款/硅碳硅烷/金属有机气体 |
实验级 |
3 |
CVD-100 |
硅碳基本款/硅碳硅烷/ |
中试级 |
一、设备简述
流化床喷雾纳米包覆(SDNC)反应系统结合了流化床反应器技术与喷雾干燥技术:将可溶性包覆物溶解并进行液相喷雾,对在载气中实现完全流化态的物料进行包覆。两种技术相互融合,可实现过程效率、厚度可控的包覆沉积,从而提升产业化的材料包覆能力,达到很好的改性目的。
二、SDNC优势
1、更细小的雾滴加流化床,使包覆更加的均匀;
2、溶解喷雾包覆,使包覆物的选择更加广泛;
3、产业化流化床反应器可实现连续化生产,单位产能远远大于传统的固定床反应器和回转容器类反应器;
4、设备采用自动化控制,大幅降低人工操作要求,并提高品质稳定性。
三、主要技术参数
1、使用载气或反应气体种类:N2、Ar和空气等;
2、固体原料种类:金属粉末、金属氧化物粉末、石墨、硅类材料三元材料和陶瓷材料等;
3、材料尺寸要求:≥2μm;
4、批次处理量:具体需求根据客户要求进行定制;
5、反应系统操作温度:≤150℃;
6、喷雾操作温度≤300℃:
四、设备型号:
序号 |
型 号 |
量 级 |
1 |
C-3 |
实验级 |
2 |
C-25 |
中试级 |
小型流化床气相沉积设备、小型流化床喷雾纳米包覆设备
Small fluidized bed gas deposition equipment,
small fluidized bed spray nano coating equipment
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