硅钼棒在不同气氛环境下使用温度
硅钼棒（MoSi₂）在不同气氛环境下的“最高使用温度”主要受表面 SiO₂ 保护膜稳定性决定。
硅钼棒在不同气氛环境下使用温度参考（不同厂家，不同型号批号，有所区别）
| 炉内气氛 | 最高使用温度 |
|---|---|
| 空气 / 氧 | 1 700 |
| 二氧化氮 | 1 700 |
| 二氧化碳 | 1 600 |
| 二氧化硫 | 1 600 |
| 氮气 | 1 550 |
| 惰性气体（Ar、He、Ne） | 1 500 |
| 一氧化碳 | 1 500 |
| 湿氢（露点 ≈10 ℃） | 1 400 |
| 分解氨（75 % H₂ + 25 % N₂） | 1 400 |
| 干氢 | 1 350 |
| 甲烷 | 1 350 |
| 真空 1.33 Pa | 1 300 |
| 真空 1.33×10⁻² Pa | 1 000 |
使用要点
氧化/中性气氛（空气、O₂、CO₂、N₂、惰性气体）可放心使用至 1 650-1 700 ℃，表面自生成 SiO₂ 保护膜，寿命最长 。
含氢气氛（干 H₂、湿 H₂、分解氨）会还原 SiO₂ 膜，温度越高破坏越快；干氢上限 1 350 ℃，湿氢可略高到 1 400 ℃ 。
真空度越高，MoSi₂ 升华速率越快；1.33×10⁻² Pa 时极限仅 1 000 ℃，如须更高温度需通入 50-100 Pa 保护性 N₂ 或 Ar 。
含 S、F、Cl、碱金属蒸气的气氛无论温度高低均应避免，否则膜被化学腐蚀，元件迅速报废 。
按上表留 50 ℃ 安全裕量进行炉温设计，
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