2400度电阻式碳化硅烧结炉(常压)

Silicon carbide sintering furnace

电阻式碳化硅烧结炉专门适应碳化硅无压(常压)烧结的自动化生产设备。该设备采用恒温场优化设计,它具有脱除成型剂—真空烧结—无压烧结等工艺在炉内一次进行的功能,炉内可适应多种气氛,适合碳化硅、氮化硅的生产。且工艺编制简单、炉内压力、真空度及气氛均得到有效的精确控制.炉内温场均匀,烧结室设计合理，是既能无压烧结又能低真空烧结先进的超高温烧结设备.

用途：

主要用于碳化硅、陶瓷、硬质合金、粉末冶金、钨 、钼、 铝镍钴永磁、Smco5、Sm2co17以及铝铁棚、钛合金等合金材料的真空、气氛烧结.

主要性能及技术参数: 

●设计温度：2400℃ 

●常用温度：2220℃ 

●高温区容积：200-2000mm×300-4000mm；或者方形 

●加热方式：石墨

●控温精度：±1℃

●温控方式： WRe5/26热电偶（0-1700℃）+美国RATEK双比色红外测温仪（1000-3200℃） 

●功率调节：可控硅移相调节 

●冷却方式：内循环冷却 

●冷却水温度：<35℃ 

●高精度热电偶分区测温，保证测温精度；

●采用数显化智能控温系统，全自动高精度完成测温控温过程，系统可按给定升温曲线升温，并可贮存四条共40段不同的工艺加热曲线； 

●设备具有测量记录功能，可记录万次数据，数据可通过历史曲线查询； 

●采用台湾进口电力调整器，非常完善的可控硅超载、短路和和过压保护；

●整机多通道数据采集，并于人机界面显示与操作，整机运行参数一目了然，易于操作；

●炉体：双层水冷结构,可抽负压真空；具有真空管道界面，增加真空破坏阀，充气孔；

●温度均匀：石墨棒组合加热方式，温度均匀性好；

●操作方便：炉体采用卧式，前后双门，装料卸料方便，操作简单。